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近些年碳化硅陶瓷成為了半導體領域的熱門材料，因為這種材料有著良好的導熱性能，而因為這些優秀的性能，被不止半導體領域應用著，他的應用越來越廣泛，其中集成電路是最需要他的，而集成電路是我國最關鍵的裝備之一，所以使用的材料要求，結構要求，精度要求是非常重要的，那么碳化硅陶瓷是靠什么被集成電路所需要，和他在光刻機上的應用是什么呢？下面鈞杰陶瓷小編為大家解決這些疑惑。
碳化硅陶瓷具有高的彈性模量和比剛度，不易變形，并且具有較高的導熱系數和低的熱膨脹系數，熱穩定性高，因此碳化硅陶瓷是一種優良的結構材料，目前已經廣泛應用于航空、航天、石油化工、機械制造、核工業、微電子工業等領域。
但是，由于碳化硅是Si—C鍵很強的共價鍵化合物，具有極高的硬度和顯著的脆性，精密加工難度大；此外，碳化硅熔點高，難以實現致密、近凈尺寸燒結。因此，大尺寸、復雜異形中空結構的精密碳化硅結構件的制備難度較高，限制了碳化硅陶瓷在諸如集成電路這類的高端裝備制造領域中的廣泛應用。目前只有日本、美國等少數幾個發達國家的少數企業(如日本的Kyocera、美國的CoorsTek等)成功地將碳化硅陶瓷材料應用于集成電路制造關鍵裝備中，如光刻機用碳化硅工件臺、導軌、反射鏡、陶瓷吸盤、手臂等。
